| 品牌 | 铭泉 |
|---|---|
| 型号 | 618 |
A.本产品是专为多层镍电镀工艺而研发的半光亮镍电镀添加剂。
B、采用进口原料配制，不含香豆素等成份，分解产物少。平常使用基本单一补充，维护方便。
C、镀层物理性能优越，基本不含硫，与光亮镍之间电位差稳定（≥125MV）。
D、镀层内应力低，出光度快、亮度均匀、平整性高、镀层接近全光亮。 工艺配方及操作条件
| 工艺范围 | **工艺 | |
| **镍 | 200～300g/L | 280g/L |
| 氯化镍 | 35～50g/L | 45g/L |
| 40～45g/L | 40g/L | |
| 半光亮镍开港剂 | 8～12mI/L | 10mI/L |
| 半光亮镍光亮剂 | 0.3～0.6mI/L | 0.4mI/L |
| 半光亮镍辅助剂 | 1～3mI /L | 2mI/L |
| PH | 3.8～4.8 | 4.2 |
| 温度 | 50～60℃ | 55℃ |
| 电压 | 12～16ⅴ | 12~16ⅴ |
| 搅拌 | 空气或机械搅拌 | |
A、用总体积2/3的温水溶解计算量的**镍及氯化镍；
B、用80℃以上热水或沸水溶解并加入上述溶液；
C、用碳酸镍或5%氢化钠调整PH值5.2左右,加入1~2ｍI/L双氧水搅拌1-2小时后,升温至70℃以上,再加入1-2g/的活性碳搅拌1小时,静置12小时以上后过滤.
D、用稀**调整PH值至4.2左右,小电流电解数小时后加入配方量的光泽剂(添加剂)即可试镀 四、光亮剂作用 1、半光亮镍开缸剂主要是起开缸作用,新配镀液时一次加入足量,平常操作基本不添加.在配合光亮剂和辅助剂的同时,具有抗杂作用,能有效隐蔽铜铁等金属杂质.平常基本不消耗,只是随工件带出量每日应补充开缸量的1/20,以保证溶液之完好性。
2、半光亮镍光亮剂主要是保证平时工作之正常,平衡消耗,补充量随工件表面状态,光亮度及平整度的要求而有差异,在使用较低电流密度时,补充量要较高些, 消耗量一般为250~300ml/KAH。 3、半光亮镍辅助剂是专门用与调整电位差的电位差调节剂．要求有较高耐腐蚀能力的镀层时按80~150ml/KAH补充。
五、工艺流程
除油→水洗→水洗→ 除锈→水洗→活化→半光亮镍→水洗→ 水洗→高硫镍→ 水洗→ 水洗→光亮镍→水洗→水洗→镀铬→水洗→水洗→干燥
六、注意:
为保证多层镍电镀工艺中镀层的耐腐蚀性能不受影响,请勿将高硫镍光亮镍溶液等含硫物质带入半光亮镍溶液中!!!
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